Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2001
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https://hal.science/hal-03302022
Soumis le : mardi 27 juillet 2021-16:52:20
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:25
Citer
Jerome O. Vasseur, P. Deymier, J. Vasseur, A. Khelif, S. Raghavan. Second-order sound field during megasonic cleaning of patterned silicon wafers: Application to ridges and trenches. Journal of Applied Physics, 2001, 90 (8), pp.4211-4218. ⟨10.1063/1.1398595⟩. ⟨hal-03302022⟩
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