Optimisation par procédé SPS de céramiques ou MEMS piézoélectriques imprimés : avantages d’une couche protectrice

Chung U-Chan; Maria Isabel Rua Taborda; Hélène Debéda; Catherine Elissalde

Conference Papers Year : 2019

Optimisation par procédé SPS de céramiques ou MEMS piézoélectriques imprimés : avantages d’une couche protectrice

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Chung U-Chan

Function : Author
PersonId : 749116
IdHAL : u-chan-chung
ORCID : 0000-0002-9537-996X
IdRef : 260752002

Institut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux

Maria Isabel Rua Taborda

Function : Author
PersonId : 1007279

Laboratoire de l'intégration, du matériau au système

Hélène Debéda

Function : Author
PersonId : 841623

Laboratoire de l'intégration, du matériau au système

Catherine Elissalde

Function : Author
PersonId : 184979
IdHAL : catherine-elissalde
ORCID : 0000-0003-1911-1870
IdRef : 077493451

Institut de Chimie de la Matière Condensée de Bordeaux

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Material chemistry Micro and nanotechnologies/Microelectronics

Hélène Debéda : Connect in order to contact the contributor

https://hal.science/hal-02529127

Submitted on : Thursday, April 2, 2020-10:26:31 AM

Last modification on : Thursday, April 11, 2024-1:08:15 PM

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hal-02529127 , version 1 (02-04-2020)

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Cite

Chung U-Chan, Maria Isabel Rua Taborda, Hélène Debéda, Catherine Elissalde. Optimisation par procédé SPS de céramiques ou MEMS piézoélectriques imprimés : avantages d’une couche protectrice. Journées Annuelles du Groupe Français de la Céramique - GFC 2019, Oct 2019, Limoges, France. ⟨hal-02529127⟩

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