Hot target magnetron sputtering applied to oxide thin film growth - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2019
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02394216 , version 1 (04-12-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02394216 , version 1

Citer

Robin Graillot-Vuillecot, Anne-Lise Thomann, Christophe Cachoncinlle, Eric Millon, Amael Caillard. Hot target magnetron sputtering applied to oxide thin film growth. Plasma Thin film International Union Meeting (PLATHINIUM), Sep 2019, Antibes, France. ⟨hal-02394216⟩
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