The role of SiF4 physisorption in silicon cryoetching
Gaëlle Antoun
(1)
,
Thomas Tillocher
(2)
,
Philippe Lefaucheux
(2)
,
Remi Dussart
(2)
,
Christophe Cardinaud
(3)
,
Aurelie Girard
(3)
,
Kumiko Yamazaki
(4)
,
Koichi Yatsuda
(5)
,
Jacques Faguet
(6)
,
Kaoru Maekawa
(6)
Thomas Tillocher
- Fonction : Auteur
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- ORCID : 0000-0002-9160-5595
- IdRef : 120339072
Philippe Lefaucheux
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- PersonId : 874204
Remi Dussart
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Christophe Cardinaud
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- ORCID : 0000-0002-9753-8848
- IdRef : 060603011