Total Ionizing Dose Effect in LDMOS oxides and devices - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue IEEE Transactions on Nuclear Science Année : 2019
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02118616 , version 1 (03-05-2019)

Identifiants

Citer

T. Borel, S. Furic, E. Leduc, A. Michez, J. Boch, et al.. Total Ionizing Dose Effect in LDMOS oxides and devices. IEEE Transactions on Nuclear Science, 2019, pp.1-1. ⟨10.1109/TNS.2019.2914091⟩. ⟨hal-02118616⟩
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