Oxydation par AFM de fines couches métalliques pour la réalisation de composants mono-électroniques - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2013

Oxydation par AFM de fines couches métalliques pour la réalisation de composants mono-électroniques

Nicolas Guillaume
Etienne Puyoo
Martine Le Berre
David Albertini
Nicolas Baboux
Brice Gautier
Calmon F.
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02075185 , version 1 (21-03-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02075185 , version 1

Citer

Nicolas Guillaume, Etienne Puyoo, Martine Le Berre, David Albertini, Nicolas Baboux, et al.. Oxydation par AFM de fines couches métalliques pour la réalisation de composants mono-électroniques. Journées Nationales du Réseau Doctoral en Micro-Nanoélectronique, Jun 2013, Grenoble, France. ⟨hal-02075185⟩
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