The Use of Electron-Beam Lithography for Localized Micro-Beam Irradiations

Y. Gonzalez-Velo (1) , J. Boch (1, 2) , N. J.-H. Roche (1) , C. Deneau (1) , J.-R. Vaillé (1, 2) , L. Dusseau (1, 2) , Frédéric Saigné (1, 2) , J. Mekki (3, 1) , F. Pichot (4) , S. Perez (5) , E. Lorfèvre (6) , R. D. Schrimpf (7)

1 IES - Institut d’Electronique et des Systèmes
2 RADIAC - Radiations et composants
3 CERN - European Organization for Nuclear Research
4 ICGM ICMMM - Institut Charles Gerhardt Montpellier - Institut de Chimie Moléculaire et des Matériaux de Montpellier
5 CERMAV - Centre de Recherches sur les Macromolécules Végétales
6 CNES - Centre National d'Études Spatiales [Toulouse]
7 Vanderbilt University [Nashville]

Domaines: Electronique

Y. Gonzalez-Velo, J. Boch, N. J.-H. Roche, C. Deneau, J.-R. Vaillé, et al.. The Use of Electron-Beam Lithography for Localized Micro-Beam Irradiations. IEEE Transactions on Nuclear Science, 2011, 58 (3), pp.1104 - 1111. ⟨10.1109/TNS.2011.2128885⟩. ⟨hal-01632651⟩