Article Dans Une Revue
IEEE Transactions on Industry Applications
Année : 2010
Dauverchain Eric : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01629118
Soumis le : lundi 6 novembre 2017-09:48:00
Dernière modification le : mardi 23 janvier 2024-12:06:45
Citer
Petru Jr. Notingher, Ludovic Boyer, Olivier Fruchier, Serge Agnel, Alain Toureille, et al.. Analysis of Data Obtained Using the Thermal-Step Method on a MOS Structure—An Electrostatic Approach. IEEE Transactions on Industry Applications, 2010, 46 (3), pp.1144 - 1150. ⟨10.1109/TIA.2010.2045211⟩. ⟨hal-01629118⟩
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