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Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Hot target magnetron sputtering: the influence of the magnetron target temperature on the sputtering process

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Anne-Lise THOMANN  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01290681

Soumis le : vendredi 18 mars 2016-12:39:55

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:02

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01290681 , version 1 (18-03-2016)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01290681 , version 1

Citer

El Mokh Mariem, Amaël Caillard, Thomas Lecas, Nadjib Semmar, Anne-Lise Thomann. Hot target magnetron sputtering: the influence of the magnetron target temperature on the sputtering process . 20th international Colloquium on Plasma Processes CIP2015 , Jun 2015, Saint Etienne, France. ⟨hal-01290681⟩

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