Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 1999
Pavel Bulkin : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00915359
Soumis le : samedi 7 décembre 2013-15:54:58
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:58
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00915359 , version 1
Citer
Pavel Bulkin, A. Hofrichter, Romain Brenot, Bernard Drévillon. Deposition of microcrystalline silicon in an integrated distributed electron cyclotron resonance PECVD reactor. Thin Solid Films, 1999, pp.37-40. ⟨hal-00915359⟩
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