Communication Dans Un Congrès
Année : 2012
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00807429
Soumis le : mercredi 3 avril 2013-15:03:40
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:05
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00807429 , version 1
Citer
T. Figueiro, K.H Choi, M.S Gutsch, M. Freitag, C.K Hohle, et al.. Advanced module for model parameter extraction using global optimization and sensitivity analysis for electron-beam proximity effect correction. 2012 Photomask Technology, 2012, Japan. ⟨hal-00807429⟩
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