Nouvelle méthode contrôlée de dépôt d'organosilanes en voie vapeur : Application à la génération de gradient de mouillabilité - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Nouvelle méthode contrôlée de dépôt d'organosilanes en voie vapeur : Application à la génération de gradient de mouillabilité

Résumé

Communication par affiche

Domaines

Polymères Matériaux

Florian Doucet  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00646118

Soumis le : mardi 29 novembre 2011-11:34:50

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:55

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00646118 , version 1 (29-11-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00646118 , version 1

Citer

Grégoire Souharce, Aurélia Charlot, Daniel Portinha, Jannick Duchet-Rumeau. Nouvelle méthode contrôlée de dépôt d'organosilanes en voie vapeur : Application à la génération de gradient de mouillabilité. JSI 2011, Jan 2011, Poitiers, France. ⟨hal-00646118⟩

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