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Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Metallic source/drain for advanced MOS architectures : from material engineering to device integration

Emmanuel Dubois
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
CV
G. Larrieu
  • Fonction : Auteur
N. Breil
  • Fonction : Auteur
R. Valentin
  • Fonction : Auteur
Francois Danneville
Dmitri Yarekha
N. Reckinger
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Xing Tang
  • Fonction : Auteur
A. Halimaoui
  • Fonction : Auteur
R. Rengel
  • Fonction : Auteur
E. Pascual
  • Fonction : Auteur
A. Pouydebasque
  • Fonction : Auteur
X. Wallart
S. Godey
J. Ratajczak
  • Fonction : Auteur
A. Laszcz
  • Fonction : Auteur
J. Katcki
  • Fonction : Auteur
J.P. Raskin
  • Fonction : Auteur
Gilles Dambrine
A. Cros
  • Fonction : Auteur
T. Skotnicki
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00575267

Soumis le : jeudi 10 mars 2011-09:08:56

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00575267 , version 1 (10-03-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00575267 , version 1

Citer

Emmanuel Dubois, G. Larrieu, N. Breil, R. Valentin, Francois Danneville, et al.. Metallic source/drain for advanced MOS architectures : from material engineering to device integration. SINANO-NANOSIL Workshop, Silicon-based CMOS and Beyond-CMOS Nanodevices, 2009, Athens, Greece. ⟨hal-00575267⟩

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