Fabrication of AD/DA microfluidic converter using deep reactive ion etching of silicon and low temperature wafer bonding - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Fabrication of AD/DA microfluidic converter using deep reactive ion etching of silicon and low temperature wafer bonding

C. Wu
  • Fonction : Auteur
F. Bendriaa
  • Fonction : Auteur
F. Brunelle
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00568962 , version 1 (24-02-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00568962 , version 1

Citer

C. Wu, F. Bendriaa, F. Brunelle, V. Senez. Fabrication of AD/DA microfluidic converter using deep reactive ion etching of silicon and low temperature wafer bonding. 36th International Conference on Micro & Nano Engineering, MNE 2010, 2010, Italy. pp.1-2. ⟨hal-00568962⟩
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