Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Microscopy Année : 2010

Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications

J. Ratajczak
  • Fonction : Auteur
A. Laszcz
  • Fonction : Auteur
A. Czerwinski
  • Fonction : Auteur
J. Katcki
  • Fonction : Auteur
F. Phillipp
  • Fonction : Auteur
P.A. van Aken
  • Fonction : Auteur
N. Reckinger
  • Fonction : Auteur
Emmanuel Dubois
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
CV

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https://hal.science/hal-00549623

Soumis le : mercredi 22 décembre 2010-11:15:41

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00549623 , version 1 (22-12-2010)

Identifiants

Citer

J. Ratajczak, A. Laszcz, A. Czerwinski, J. Katcki, F. Phillipp, et al.. Transmission electron microscopy study of erbium silicide formation from Ti/Er stack for Schottky contact applications. Journal of Microscopy, 2010, 237, pp.379-383. ⟨10.1111/j.1365-2818.2009.03264.x⟩. ⟨hal-00549623⟩

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