Conformité, microstructure et purété de films d'aluminium déposés sur substrats de Si patternés. Etude comparative selon le procédé de dépôt : pulvérisation plasma, ablation laser, dépôt chimique en phase vapeur
N. Shaharil
(1)
,
R. Blanc
(1)
,
N. Prud'Homme
(1)
,
Amaël Caillard
(1)
,
Eric Millon
(1)
,
Anne Lise Thomann
(1)
,
Pascal Brault
(1)
,
Constantin Vahlas
(2)
,
Alain Pineau
(3)
Amaël Caillard
- Fonction : Auteur
- PersonId : 180317
- IdHAL : amael-caillard
- ORCID : 0000-0001-9540-1381
- IdRef : 120995565
Eric Millon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 15604
- IdHAL : ericmillon
- ORCID : 0000-0001-6087-8737
- IdRef : 032981945
Pascal Brault
- Fonction : Auteur
- PersonId : 2852
- IdHAL : pascalbrault
- ORCID : 0000-0002-8380-480X
- IdRef : 032109075
Constantin Vahlas
- Fonction : Auteur
- PersonId : 740043
- IdHAL : constantin-vahlas
- ORCID : 0000-0001-5911-0296
- IdRef : 068631081