Ultra-low energy ion implantation of Si and Ge into HfO2-based layers for non volatile memory applications
Pierre-Eugène Coulon
,
B.S. Sahu
(1)
,
Marzia Carrada
(1)
,
Sylvie Schamm-Chardon
(2)
,
Gérard Benassayag
,
Béatrice Pécassou
,
A. Slaoui
(1)
,
S. Lhostis
(3)
,
Caroline Bonafos
(2)
Pierre-Eugène Coulon
- Fonction : Auteur
Marzia Carrada
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18629
- IdHAL : marzia-carrada
- ORCID : 0000-0001-8828-6805
- IdRef : 071507515
Sylvie Schamm-Chardon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 18555
- IdHAL : sylvie-schamm-chardon
- ORCID : 0000-0001-5534-8475
- IdRef : 143045121
Béatrice Pécassou
- Fonction : Auteur
- PersonId : 19009
- IdHAL : beatrice-pecassou
Caroline Bonafos
- Fonction : Auteur
- PersonId : 19831
- IdHAL : caroline-bonafos
- ORCID : 0000-0001-5140-6690
- IdRef : 071508147