Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00461594
Soumis le : vendredi 5 mars 2010-09:51:03
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:00:55
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00461594 , version 1
Citer
T. Chevolleau, Maxime Darnon, T. David, N. Posseme, J. Torres, et al.. Chamber Walls Coatings during hard mask patterning of Ultra Low-k Materials: Consequences on Cleaning Strategies. AVS 54th international symposium, 2007, United States. ⟨hal-00461594⟩
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