Patterning of porous SiOCH using an organic mask: Comparison with a metallic masking strategy - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2010

Patterning of porous SiOCH using an organic mask: Comparison with a metallic masking strategy

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00461126

Soumis le : mercredi 3 mars 2010-14:32:04

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:22:33

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00461126 , version 1 (03-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00461126 , version 1

Citer

Maxime Darnon, T. Chevolleau, T. David, J. Ducote, N. Posseme, et al.. Patterning of porous SiOCH using an organic mask: Comparison with a metallic masking strategy. Journal of Vacuum Science and Technology, 2010, B28 (1), pp 149-156. ⟨hal-00461126⟩

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