Hyperbranched polymers for photolithographic applications towards understanding the relationship between chemical structure of polymer resin and lithographic performances
Christos L. Chochos
(1)
,
Esma Ismailova
(2)
,
Cyril Brochon
(2)
,
Nicolas Leclerc
(2)
,
Ralouca Tiron
(3)
,
Claire Sourd
(3)
,
Philippe Bandelier
(3, 4)
,
Johann Foucher
(3)
,
Hassan Ridaoui
(5)
,
Ali Dirani
(5)
,
Olivier Soppera
(5)
,
Damien Perret
(6)
,
Christophe Brault
(6)
,
C. Serra
(7)
,
Georges Hadziioanou
(2)
1
IPC -
Institute of Physical Chemistry "Demokritos"
2 Laboratoire d'Ingenierie des Polymères pour les Hautes Technologies
3 Lithography Laboratory
4 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
5 IS2M - Institut de Science des Matériaux de Mulhouse
6 Rohm et Haas Electronic Materials
7 Departament de Física i Enginyeria Nuclear
2 Laboratoire d'Ingenierie des Polymères pour les Hautes Technologies
3 Lithography Laboratory
4 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
5 IS2M - Institut de Science des Matériaux de Mulhouse
6 Rohm et Haas Electronic Materials
7 Departament de Física i Enginyeria Nuclear
Cyril Brochon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 1145364
- ORCID : 0000-0003-3242-1574
- IdRef : 167033689
Nicolas Leclerc
- Fonction : Auteur
- PersonId : 739082
- IdHAL : leclercn
Olivier Soppera
- Fonction : Auteur
- PersonId : 738946
- IdHAL : olivier-soppera
- ORCID : 0000-0001-5250-2254
- IdRef : 078649781