Kinetics of O and H atoms in pulsed O-2/HMDSO low pressure PECVD plasmas - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Optoelectronics and Advanced Materials Année : 2008

Kinetics of O and H atoms in pulsed O-2/HMDSO low pressure PECVD plasmas

A. Bousquet
Institut des Matériaux Jean Rouxel
CV
Agnès A. Granier
  • Fonction : Auteur
Institut des Matériaux Jean Rouxel
G. Cartry
Antoine Goullet
Institut des Matériaux Jean Rouxel

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Richard BASCHERA  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00396552

Soumis le : jeudi 18 juin 2009-14:23:07

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00396552 , version 1 (18-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00396552 , version 1

Citer

A. Bousquet, Agnès A. Granier, G. Cartry, Antoine Goullet. Kinetics of O and H atoms in pulsed O-2/HMDSO low pressure PECVD plasmas. Journal of Optoelectronics and Advanced Materials, 2008, 10 (8), pp.1999. ⟨hal-00396552⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UNIV-NANTES CNRS IMN PCM NANTES-UNIVERSITE
80 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More