Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2004
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00390552
Soumis le : mardi 2 juin 2009-13:56:44
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:23
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00390552 , version 1
Citer
O. Joubert, G. Cunge, B. Pelissier, L. Vallier, M. Kogelschatz, et al.. Monitoring chamber walls coating deposited during plasma processes: Application to silicon gate etch processes. Journal of Vacuum Science and Technology, 2004, A 22, pp.553. ⟨hal-00390552⟩
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