Monitoring chamber walls coating deposited during plasma processes: Application to silicon gate etch processes - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2004

Monitoring chamber walls coating deposited during plasma processes: Application to silicon gate etch processes

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00390552

Soumis le : mardi 2 juin 2009-13:56:44

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:23

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Dates et versions

hal-00390552 , version 1 (02-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00390552 , version 1

Citer

O. Joubert, G. Cunge, B. Pelissier, L. Vallier, M. Kogelschatz, et al.. Monitoring chamber walls coating deposited during plasma processes: Application to silicon gate etch processes. Journal of Vacuum Science and Technology, 2004, A 22, pp.553. ⟨hal-00390552⟩

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