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Communication Dans Un Congrès Année : 2002

Negative tone CAR resists for e-beam lithography : modification of chemical composition for R&D application (high resolution) or production application (high sensitivity)

M. Charpin
  • Fonction : Auteur
L. Pain
  • Fonction : Auteur
S. Tedesco
  • Fonction : Auteur
C. Gourgon
  • Fonction : Auteur
Laboratoire des technologies de la microélectronique
A. Andrei
  • Fonction : Auteur
Dominique Henry
  • Fonction : Auteur
Y. Laplanche
  • Fonction : Auteur
R. Hanawa
  • Fonction : Auteur
T. Kusumoto
  • Fonction : Auteur
M. Suetsugu
  • Fonction : Auteur
H. Yokoyama
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00385931

Soumis le : mercredi 20 mai 2009-14:10:42

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00385931 , version 1 (20-05-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00385931 , version 1

Citer

M. Charpin, L. Pain, S. Tedesco, C. Gourgon, A. Andrei, et al.. Negative tone CAR resists for e-beam lithography : modification of chemical composition for R&D application (high resolution) or production application (high sensitivity). SPIE's 2002 Symposium on Microlithography, 2002, santa clara, United States. pp.vol 4690 1157-1170. ⟨hal-00385931⟩

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