Article Dans Une Revue
Applied Physics Letters
Année : 1999
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00285340
Soumis le : jeudi 5 juin 2008-11:02:54
Dernière modification le : mercredi 24 avril 2024-11:28:54
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00285340 , version 1
Citer
L. Vallier, L. Desvoires, M. Bonvalot, O. Joubert. Thin gate oxide behavior during plasma patterning of Silicon gates. Applied Physics Letters, 1999, 75(8),, pp.1069. ⟨hal-00285340⟩
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