In situ deposition of sputtered PZT films: control of the growth temperature by the sputtered lead flux - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Vacuum Année : 2000

In situ deposition of sputtered PZT films: control of the growth temperature by the sputtered lead flux

G. Velu
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Denis Remiens

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https://hal.science/hal-00158556

Soumis le : vendredi 29 juin 2007-09:59:09

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00158556 , version 1 (29-06-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00158556 , version 1

Citer

G. Velu, Denis Remiens. In situ deposition of sputtered PZT films: control of the growth temperature by the sputtered lead flux. Vacuum, 2000, 56, pp.199-204. ⟨hal-00158556⟩

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