Modeling of chemical kinetics in induction plasma - Application to processes
Modélisation de la cinétique chimique dans les plasmas inductifs - Application aux procédés
Résumé
Creation of modeling tools specific to inductively coupled plasmas (ICP) processes appears essential today for its development and optimization. In an application such as photovoltaic silicon purification, current tools do not make it possible to understand the specificities of plasma and thus do not allow optimization of the process. We propose, in this thesis, to develop such a tool and to apply it to the process of silicon purification by plasma on a laboratory scale.
L'élaboration d'outils de modélisation spécifiques aux plasmas inductifs, utilisés au développement et à l'optimisation de procédés, apparaît aujourd'hui indispensable. Dans une application telle que la purification de silicium photovoltaïque, les outils actuels ne permettent pas de comprendre les spécificités qu'apporte le plasma et ne permettent donc pas l'optimisation du procédé. On se propose, dans cette thèse, de développer un tel outil et de l'appliquer au procédé de purification de silicium par plasma disponible au laboratoire.
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