Properties of Ti-oxide thin films grown in reactive magnetron sputtering with self-heating target - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Vacuum Année : 2022

Properties of Ti-oxide thin films grown in reactive magnetron sputtering with self-heating target

Fichier principal
Vignette du fichier
S0042207X21007582.pdf (586.58 Ko) Télécharger le fichier
Origine : Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Dates et versions

hal-03541208 , version 1 (08-01-2024)

Licence

Paternité - Pas d'utilisation commerciale

Identifiants

Citer

R. Graillot-Vuillecot, A.-L. Thomann, T. Lecas, C. Cachoncinlle, E. Millon, et al.. Properties of Ti-oxide thin films grown in reactive magnetron sputtering with self-heating target. Vacuum, 2022, 197, pp.110813. ⟨10.1016/j.vacuum.2021.110813⟩. ⟨hal-03541208⟩
39 Consultations
12 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More