'Kinetics and Reaction Mechanisms of Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition of Polycrystalline Silicon Dots from Silane - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2002

'Kinetics and Reaction Mechanisms of Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition of Polycrystalline Silicon Dots from Silane

D. Tonneau
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
CV
Y. Pauleau
  • Fonction : Auteur

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Didier Tonneau  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03523710

Soumis le : mercredi 12 janvier 2022-19:11:39

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:25

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03523710 , version 1 (12-01-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03523710 , version 1

Citer

D. Tonneau, Y. Pauleau. 'Kinetics and Reaction Mechanisms of Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition of Polycrystalline Silicon Dots from Silane. Journal of Applied Physics, In press, 91 (3), pp.1553-1559. ⟨hal-03523710⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UNIV-AMU CINAM
9 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More