High aspect ratio nano-oxidation of Silicon with noncontact atomic force microscopy - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science and Technology Année : 2003

High aspect ratio nano-oxidation of Silicon with noncontact atomic force microscopy

D. Tonneau
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
CV

Domaines

Matière Condensée [cond-mat]

Didier Tonneau  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03513081

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Dates et versions

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Identifiants

  • HAL Id : hal-03513081 , version 1

Citer

D. Tonneau. High aspect ratio nano-oxidation of Silicon with noncontact atomic force microscopy. Journal of Vacuum Science and Technology, 2003, 21 (6), pp.2348. ⟨hal-03513081⟩

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