Thermal drift of piezoresistive properties of LPCVD polysilicon thin films between room temperature and 200 °C - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Science and Engineering: B Année : 1997

Thermal drift of piezoresistive properties of LPCVD polysilicon thin films between room temperature and 200 °C

P. Kleimann
  • Fonction : Auteur
B. Semmache
  • Fonction : Auteur
Martine Le Berre
D. Barbier
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-03328862 , version 1 (30-08-2021)

Identifiants

Citer

P. Kleimann, B. Semmache, Martine Le Berre, D. Barbier. Thermal drift of piezoresistive properties of LPCVD polysilicon thin films between room temperature and 200 °C. Materials Science and Engineering: B, 1997, 46 (1-3), pp.43-46. ⟨10.1016/S0921-5107(96)01927-7⟩. ⟨hal-03328862⟩
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