Performance Enhancement in N-Channel Organic Field-Effect Transistors Using Ferroelectric Material as a Gate Dielectric - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue IEEE Transactions on Nanotechnology Année : 2017

Performance Enhancement in N-Channel Organic Field-Effect Transistors Using Ferroelectric Material as a Gate Dielectric

Manuel Lopes
David Buso
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1165306
  • IdHAL : david-buso
Marc Ternisien
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02939353 , version 1 (15-09-2020)

Identifiants

Citer

Benjamin Ramos, Manuel Lopes, David Buso, Marc Ternisien. Performance Enhancement in N-Channel Organic Field-Effect Transistors Using Ferroelectric Material as a Gate Dielectric. IEEE Transactions on Nanotechnology, 2017, 16 (5), pp.773-777. ⟨10.1109/TNANO.2017.2683201⟩. ⟨hal-02939353⟩
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