Effect of the silicon substrate nitridation on optical and electrical properties of silicon nitride thin films deposited by reactive magnetron sputtering. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2019

Effect of the silicon substrate nitridation on optical and electrical properties of silicon nitride thin films deposited by reactive magnetron sputtering.

A. F. Bachar
  • Fonction : Auteur
Institut de Chimie de Clermont-Ferrand
A. Bousquet
Institut de Chimie de Clermont-Ferrand
CV
C. Robert Goumet
  • Fonction : Auteur
G. Monier
C. Varenne
  • Fonction : Auteur
E. Tomasella
  • Fonction : Auteur
Institut de Chimie de Clermont-Ferrand

Domaines

Chimie

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https://hal.science/hal-02562429

Soumis le : lundi 4 mai 2020-16:10:23

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Dates et versions

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Identifiants

  • HAL Id : hal-02562429 , version 1

Citer

A. F. Bachar, A. Bousquet, C. Robert Goumet, G. Monier, C. Varenne, et al.. Effect of the silicon substrate nitridation on optical and electrical properties of silicon nitride thin films deposited by reactive magnetron sputtering.. PLATHINIUM (Plasma Thin film International Union Meeting), Sep 2019, Antibes, France. ⟨hal-02562429⟩

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