Influence of process parameters on the growth of pulsed-laser-deposited thin bismuth films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 1997

Influence of process parameters on the growth of pulsed-laser-deposited thin bismuth films

O. Boffoue
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de physique des matériaux
B. Lenoir
Laboratoire de physique des matériaux
CV
Louis Hennet
Laboratoire de physique des matériaux
CV
N. Maloufi
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de physique des matériaux
H. Scherrer
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de physique des matériaux
A. Dauscher
Laboratoire de physique des matériaux

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Louis Hennet  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02540752

Soumis le : samedi 11 avril 2020-19:15:38

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:15

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Dates et versions

hal-02540752 , version 1 (11-04-2020)

Identifiants

Citer

O. Boffoue, B. Lenoir, Louis Hennet, N. Maloufi, H. Scherrer, et al.. Influence of process parameters on the growth of pulsed-laser-deposited thin bismuth films. ALT '97 International Conference on Laser Surface Processing, Sep 1997, Limoges, France. pp.61-67, ⟨10.1117/12.308596⟩. ⟨hal-02540752⟩

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