Article Dans Une Revue
Plasma Chemistry and Plasma Processing
Année : 2011
Cédric NOEL : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02447132
Soumis le : mardi 21 janvier 2020-13:55:35
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13
Citer
E. Bernardelli, T. Belmonte, D. Duday, G. Frache, Fabienne Poncin-Epaillard, et al.. Interaction Mechanisms Between Ar–O2 Post-Discharge and Stearic Acid II: Behaviour of Thick Films. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 2011, 31 (1), pp.205-215. ⟨10.1007/s11090-010-9264-1⟩. ⟨hal-02447132⟩
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