Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2019
Pere Roca Cabarrocas : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02414409
Soumis le : lundi 16 décembre 2019-16:03:54
Dernière modification le : mardi 12 mars 2024-03:22:54
Citer
A. Kharchenko, K. Ouaras, V. Suendo, J. Ebothe, P. Roca I Cabarrocas. Influence of p- and n-type doping gases on nanoparticle formation in SiH 4 /H 2 radiofrequency plasma discharges used for polymorphous silicon thin film deposition. Journal of Applied Physics, 2019, 125 (16), pp.163307. ⟨10.1063/1.5090769⟩. ⟨hal-02414409⟩
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