Comprehensive physical modeling of forming and switching operations in HfO2 RRAM devices - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02349309 , version 1 (05-11-2019)

Identifiants

Citer

L. Vandelli, A. Padovani, L. Larcher, G. Broglia, Guido Ori, et al.. Comprehensive physical modeling of forming and switching operations in HfO2 RRAM devices. 2011 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), Dec 2011, Washington, United States. pp.17.5.1-17.5.4, ⟨10.1109/IEDM.2011.6131574⟩. ⟨hal-02349309⟩
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