Challenges of contact etching for 14FDSOI technology

Mokrane Mebarki (1, 2, 3) , Maxime Darnon (4, 5, 1) , Cecile Jenny (3) , Nicolas Posseme (2) , Delia Ristoiu (3) , Claire Richard (3) , Olivier Joubert (1)

1 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
3 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
4 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
5 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]

Domaines: Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Mokrane Mebarki, Maxime Darnon, Cecile Jenny, Nicolas Posseme, Delia Ristoiu, et al.. Challenges of contact etching for 14FDSOI technology. SPIE-AL, Feb 2015, San Jose, United States. ⟨hal-02339980⟩