Plasma etching for high efficiency solar cells fabrication

Maxime Darnon (1, 2) , Abdelatif Jaouad (2, 1) , Mathieu de Lafontaine (2, 1, 3) , Pierre Albert (1, 2, 4) , Clement Colin (2, 1) , Boussairi Bouzazi (2, 1) , Maite Volatier (2, 1) , Simon Fafard (1, 2) , Richard Ares (2, 1) , Vincent Aimez (1, 2)

1 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
2 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes
3 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
4 IMS - Laboratoire de l'intégration, du matériau au système

Domaines: Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Maxime Darnon, Abdelatif Jaouad, Mathieu de Lafontaine, Pierre Albert, Clement Colin, et al.. Plasma etching for high efficiency solar cells fabrication. CMOS Emerging Technologies Research, May 2016, Montreal, Canada. ⟨hal-02339969⟩