MICROWAVE PECVD SYSTEM FOR SiNx:H ANTIREFLECTION COATINGS AND HYDROGEN PASSIVATION ON MULTICRYSTALLINE SILICON - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes Année : 2003

MICROWAVE PECVD SYSTEM FOR SiNx:H ANTIREFLECTION COATINGS AND HYDROGEN PASSIVATION ON MULTICRYSTALLINE SILICON

E. Fourmond
INL - Photovoltaïque
CV
M. Lemiti
INL - Photovoltaïque
C. Trassy
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de thermodynamique et physico-chimie métallurgiques
A. Laugier
  • Fonction : Auteur

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Micro et nanotechnologies/Microélectronique

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https://hal.science/hal-02328295

Soumis le : mercredi 23 octobre 2019-10:47:45

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Dates et versions

hal-02328295 , version 1 (23-10-2019)

Identifiants

Citer

E. Fourmond, M. Lemiti, C. Trassy, A. Laugier. MICROWAVE PECVD SYSTEM FOR SiNx:H ANTIREFLECTION COATINGS AND HYDROGEN PASSIVATION ON MULTICRYSTALLINE SILICON. High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes, 2003, 7 (2), pp.10. ⟨10.1615/HighTempMatProc.v7.i2.130⟩. ⟨hal-02328295⟩

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