Atomic Layer Etching at low substrate temperature

Gaëlle Antoun (1) , Philippe Lefaucheux (2) , Thomas Tillocher (2) , Remi Dussart (2) , Kumiko Yamazaki (3) , Koichi Yatsuda (4) , Jacques Faguet (5) , Kaoru Maekawa (5)

1 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
2 GREMI - Groupe de recherches sur l'énergétique des milieux ionisés
3 Tokyo Electron Limited
4 TEL - Tokyo Electron
5 TEL Technology Center, America, LLC

Domaines: Physique des plasmas [physics.plasm-ph]; Sciences de l'ingénieur [physics]; Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Gaëlle Antoun, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Kumiko Yamazaki, et al.. Atomic Layer Etching at low substrate temperature. 19th International Conference on Atomic Layer Deposition - 6th International Atomic Layer Etching Workshop, Jul 2019, Seattle, United States. ⟨hal-02311308⟩