INTRODUCTION AU PROCÉDÉ DE GRAVURE CRYOGÉNIQUE DU SILICIUM - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2018

INTRODUCTION AU PROCÉDÉ DE GRAVURE CRYOGÉNIQUE DU SILICIUM

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph] Sciences de l'ingénieur [physics] Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Thomas Tillocher  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02311219

Soumis le : jeudi 10 octobre 2019-17:02:02

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:12

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Dates et versions

hal-02311219 , version 1 (10-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02311219 , version 1

Citer

Gaëlle Antoun, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart. INTRODUCTION AU PROCÉDÉ DE GRAVURE CRYOGÉNIQUE DU SILICIUM. 15e Congrès de la Société Française de Physique Division Plasmas, Jun 2018, Bordeaux, France. ⟨hal-02311219⟩

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