Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2016
Nathanaelle SCHNEIDER : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02148657
Soumis le : mercredi 5 juin 2019-16:37:31
Dernière modification le : vendredi 19 avril 2024-16:18:56
Citer
Nathanaelle Schneider, Daniel Lincot, Frédérique Donsanti. Atomic layer deposition of copper sulfide thin films. Thin Solid Films, 2016, 600, pp.103-108. ⟨10.1016/j.tsf.2016.01.015⟩. ⟨hal-02148657⟩
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