Simulation and growing study of Cu–Al–S thin films deposited by atomic layer deposition

Lorraine Duclaux (1) , Frédérique Donsanti , Julien Vidal , Muriel Bouttemy (2) , Nathanaelle Schneider (1) , Negar Naghavi (1)

1 IRDEP - Institut de Recherche et Développement sur l'Energie Photovoltaïque
2 ILV - Institut Lavoisier de Versailles

Domaines: Chimie

Lorraine Duclaux, Frédérique Donsanti, Julien Vidal, Muriel Bouttemy, Nathanaelle Schneider, et al.. Simulation and growing study of Cu–Al–S thin films deposited by atomic layer deposition. Thin Solid Films, 2015, 594, pp.232-237. ⟨10.1016/j.tsf.2015.06.014⟩. ⟨hal-02148655⟩