Oligosaccharide/Silicon-Containing Block Copolymers with 5 nm Features for Lithographic Applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue ACS Nano Année : 2012

Oligosaccharide/Silicon-Containing Block Copolymers with 5 nm Features for Lithographic Applications

Julia Cushen
  • Fonction : Auteur
Issei Otsuka
Centre de Recherches sur les Macromolécules Végétales
Christopher Bates
  • Fonction : Auteur
Sami Halila
Centre de Recherches sur les Macromolécules Végétales
CV
Sébastien Fort
Centre de Recherches sur les Macromolécules Végétales
Cyrille Rochas
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 856129
Laboratoire de Spectrométrie Physique
Jeffrey Easley
  • Fonction : Auteur
Erica Rausch
  • Fonction : Auteur
Anthony Thio
  • Fonction : Auteur
Redouane Borsali
Centre de Recherches sur les Macromolécules Végétales
C. Grant Willson
  • Fonction : Auteur
Christopher Ellison
  • Fonction : Auteur

Domaines

Polymères Matériaux Micro et nanotechnologies/Microélectronique Génie des procédés

Issei Otsuka  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02114592

Soumis le : lundi 29 avril 2019-17:36:06

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:11

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Dates et versions

hal-02114592 , version 1 (29-04-2019)

Identifiants

Citer

Julia Cushen, Issei Otsuka, Christopher Bates, Sami Halila, Sébastien Fort, et al.. Oligosaccharide/Silicon-Containing Block Copolymers with 5 nm Features for Lithographic Applications. ACS Nano, 2012, 6 (4), pp.3424-3433. ⟨10.1021/nn300459r⟩. ⟨hal-02114592⟩

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