Technological developments of epitaxial lift-off process over InP substrates

F. Chancerel (1, 2, 3) , P. Regreny (1) , J.L. Leclercq (4) , A. Jaouad (2, 3) , M. Darnon (5, 2) , S. Fafard (2, 3) , M. Gendry (1) , Vincent Aimez (2, 3)

1 INL - H&N - INL - Hétéroepitaxie et Nanostructures
2 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes
3 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]
4 INL - Photonique - INL - Nanophotonique
5 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines: Sciences de l'ingénieur [physics]

F. Chancerel, P. Regreny, J.L. Leclercq, A. Jaouad, M. Darnon, et al.. Technological developments of epitaxial lift-off process over InP substrates. Journées nationales sur les technologies émergentes en micro nanofabrication (JNTE 2017), Nov 2017, Orléans, France. ⟨hal-02073141⟩