Communication Dans Un Congrès
Année : 2014
Isabelle Verrier : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02043193
Soumis le : mercredi 20 février 2019-17:52:11
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:09
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02043193 , version 1
Citer
Kafai Lai, Andreas Erdmann, J.-C. Michel, J.-C. Le Denmat, A. Tishchenko, et al.. Fast integral rigorous modeling applied to wafer topography effect prediction on 2x nm bulk technologies. SPIE Advanced Lithography, Feb 2014, San Jose, United States. pp.905223. ⟨hal-02043193⟩
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