In Situ X-Ray Scattering and Optical Substrate Curvature Studies of ZnO Growth by Atomic Layer and Metal Organic Chemical Vapor Deposition

Hubert Renevier (1) , Raphaël Boichot (2) , Alexandre Crisci (2) , Liang Tian (1) , Ahmad Chaker (1) , Elisabeth Blanquet (2) , Marie-Ingrid Richard (3, 4) , T. Ouled (3) , C. Guichet (3) , O. Thomas (5) , G. Ciatto (6) , M. H. Chu (6) , N. Aubert (6) , Valentine Cantelli , Jean Luc Deschanvres (1) , Dillon Fong

1 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
2 SIMaP - Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
3 IM2NP - Institut des Matériaux, de Microélectronique et des Nanosciences de Provence
4 ESRF - European Synchrotron Radiation Facility
5 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
6 SSOLEIL - Synchrotron SOLEIL

Domaines: Matériaux

Hubert Renevier, Raphaël Boichot, Alexandre Crisci, Liang Tian, Ahmad Chaker, et al.. In Situ X-Ray Scattering and Optical Substrate Curvature Studies of ZnO Growth by Atomic Layer and Metal Organic Chemical Vapor Deposition. MRS Spring Meeting, Sep 2015, San Francisco, United States. ⟨hal-02016970⟩