Aluminum nitride thin films deposited by hydrogen plasma enhanced and thermal atomic layer deposition

Lian Tian (1) , Arnaud Mantoux (1) , Frédérique Mercier (1) , Alexandre Crisci (1) , R. Reboud (1) , Fabien Volpi (1) , Gaël Giusti , Laetitia Rapenne (2) , Christophe Vallée (3) , Michel Pons (1) , Carmen Jimenez (2) , Elisabeth Blanquet (1)

1 SIMaP - Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
2 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique
3 LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique

Domaines: Matériaux

Lian Tian, Arnaud Mantoux, Frédérique Mercier, Alexandre Crisci, R. Reboud, et al.. Aluminum nitride thin films deposited by hydrogen plasma enhanced and thermal atomic layer deposition. E-MRS Spring, Jun 2018, Strasbourg, France. ⟨hal-01981226⟩