Deep germanium etching using time multiplexed plasma etching

Maxime Darnon (1, 2) , Mathieu de Lafontaine (1, 2) , Maité Volatier (1, 2) , Simon Fafard (1, 2) , Richard A Arès (1, 2) , Abdelatif Jaouad (1, 2) , Vincent Aimez (1, 2)

1 LN2 - Laboratoire Nanotechnologies et Nanosystèmes [Sherbrooke]
2 3IT - Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke]

Mots clés: plasma etching germanium

Domaines: Sciences de l'ingénieur [physics]; Micro et nanotechnologies/Microélectronique

Maxime Darnon, Mathieu de Lafontaine, Maité Volatier, Simon Fafard, Richard A Arès, et al.. Deep germanium etching using time multiplexed plasma etching. Journal of Vacuum Science and Technology, 2015, 33, pp.060605. ⟨10.1116/1.4936112⟩. ⟨hal-01916768⟩